特种陶瓷材料反应烧结(ReactionSintering,RS或ReactionBanding,RB1目前反应烧结仅限于少量几个特种陶瓷材料体系:反应烧结氮化硅(si2N2),氧氮化硅(si2ON2)和碳化硅(sic)等。特种陶瓷材料反应烧结Sil2N2是将多孑L硅压坯在1400℃左右和烧结气氛N2发生反应生成Si3N3由于是放热反应,所以正确控制反应速度是十分重要的。如果反应速度过高,将会使特种陶瓷材料坯块局部温度超过硅的熔点。这样一方面阻碍反应的进一步进行,另一方面使特种陶瓷材料反应的产物形成粗大的晶粒。随着特种陶瓷材料反应的进行,氮气扩散愈来愈困难,所以反应很难彻底,特种陶瓷材料产品相对密度较低,一般只能达到90%左右。
特种陶瓷材料反应烧结si2ON2是将Si、SiO2和CaF2(或CaO、MgO等玻璃形成剂)混合,特种陶瓷材料压成压坯,在高温下si与烧结气氛发生反应,caF2、CaO、MgO等与SiO2形成玻璃相。特种陶瓷材料氮溶解人熔融的玻璃中,Si2ON2晶体从被氮饱和的玻璃相中析出。特种陶瓷材料反应烧结氧氮化硅的密度可大于90%。
反应烧结SiC是将SiC—C多孔坯块用液态硅浸渍反应而制成的。特种陶瓷材料反应烧结的特点是坯块在烧结过程中尺寸基本不变,可制得尺寸精确的特种陶瓷材料制件,同时工艺简单、经济,适于特种陶瓷材料大批量生产。缺点是特种陶瓷材料力学性能不高,这是由于密度较低所造成的。
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本文“特种陶瓷材料反映烧结方法”由科众陶瓷编辑整理,修订时间:2022-12-16 16:42:05
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