氧化铝陶瓷不同的烧结方式介绍

　　氧化铝陶瓷化学成分为Al2O3烧结温度高达1650—1990℃，透射波长为1～6μm，一般制成熔融玻璃以取代铂坩埚；利用其透光性及可耐碱金属腐蚀性用作钠灯管；在电子工业中可用作集成电路基板与高频绝缘材料。含量不同，成型方法不同，西能要求不同的氧化铝陶瓷烧结方式也有一定区别。

　　氧化铝陶瓷常压的烧结方式：

　　其实氧化铝陶瓷常压的烧结方式就是在大气的条件下，将坯体进行烧结的整个过程，这种方式在烧结的温度上会比较高，因此对于窑炉的要求也较高，而且能源的浪费也非常大。

　　氧化铝陶瓷热压的烧结方式：

　　氧化铝陶瓷热压的烧结方式要比常温的烧结在温度上低，而且烧结后的制品在理论的密度上可以搞到百分之九十九，由于热压的烧结主要采用的是预成型，或者是将粉料直接的装入到模内，整个工艺相对来说较为简单。

　　氧化铝陶瓷电场的烧结方式：

　　是将氧化铝陶瓷的胚体直接在直流的电场作用之下，完成整个烧结的过程。

　　氧化铝陶瓷超高压的烧结方式：

　　需要氧化铝陶瓷在几十万个大气压以上的压力之下，进行烧结的整个工作。

　　氧化铝陶瓷气氛的烧结方式：

　　主要是针对氧化铝陶瓷在空气中比较难以进行烧结的制品，为了预防其出现氧化，可以在炉膛的内部进入适当的气体，形成需要的气氛效果，在这种气氛下完成烧结。