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陶瓷浮动抛光

陶瓷结晶材料在表面上存在有很多晶格缺陷,去除表面原子所需能量比破坏材料原子结合所需的能量小得多,强度高的物质表面凸出部分原子更易被强度低的粒子冲击而被去除!
        陶瓷结晶材料在表面上存在有很多晶格缺陷,去除表面原子所需能量比破坏材料原子结合所需的能量小得多,强度高的物质表面凸出部分原子更易被强度低的粒子冲击而被去除。可以实现用软质粒子来加工硬质材料,并且硬质材料也不会因为力的作用发生塑性变形而产生品格错位或缺陷。浮动抛光是使用平面度很高并带有同心圆或螺旋沟槽的锡抛光盘、高回转精度的抛光机,将抛光液覆盖在整个陶瓷抛光盘表面上,使抛光盘及工件相对高速回转,在二者之间抛光液呈动压流体状态,使工件悬浮在抛光盘上并获得极高平面度的非接触超精密抛光方法。浮动抛光技术可获得高精度表面,加工后表面没有残余应力,不影响材料表面磁特性。主要应用于高密度的VTR(video tape recorder)磁头、计算机磁头的磁隙面和滑动面、激光器中光学陶瓷零件加工


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